产品中心
设备用途
用于研究导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研项目。
设备组成
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
极限真空度:≤6.67×10-5Pa;
抽速:45分钟可达到6.67×10-4Pa;
基片尺寸:4英寸x1片;
加热炉最高温度 800°C;
热阻蒸发组件:2套;
新型电子枪及电源:电子枪最大功率8KW(10KV,800mA)可调;
水冷式坩埚: 4穴坩埚,每个容量约为11 ml;
膜厚控制仪(1个探头):1套;
分子泵系统:1套;
控制系统:用工控机进行系统操作,可显示或自动控制的功能有:电子枪、膜厚控制仪、样品旋转及加热、气路、抽气;
冷却水循环机及水路组件:1套;
离子轰击系统组件:1套;
地址:沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话:024-23826899、024-23826855
售后电话:024-23826838
传真:024-23826828
邮箱:sales@sky.ac.cn
网址:www.sky.ac.cn
开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号:2100 1394 6010 5958 1266
纳税号:912101 0041 0581 2660