FJL560磁控溅射与离子束系统 - 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

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FJL560磁控溅射与离子束系统
编号:1
类别:离子束溅射镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途 

     

        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研制备。

    设备组成 

     

        系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统、离子源及安装机台等部分组成。

    极限真空度:≤6.6x10-5Pa

    抽速:40分钟可达到6.6x10-4Pa

    磁控溅射靶组件:2英寸x4套;

    直流溅射电源:500Wx2套;

    射频溅射电源:500Wx2套;

    样品尺寸:φ30mmx6片;

    样品台温度:600℃;

    溅射离子枪:1套;

    辅助离子枪:1套;

    四工位转靶:1套;

    质量流量控制器:3套;

    分子泵系统:1套;

    控制系统:触摸屏点动控制:样品公转、样品自转、基片挡板转动、样品控温、四工位转靶、质量流量控制器、真空计、直流溅射电源、射频溅射电源。

    冷却水路系统:1套。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:024-23826899024-23826855

    售后电话:024-23826838

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.sky.ac.cn

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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