EB900型高真空电子束蒸发薄膜沉积系统 - 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
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EB900型高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
编号:2
类别:电子束蒸发
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途
    广泛用于半导体、LED生产线批量生产,可满足铝、钛、铬、钼、钒、镍、银、铟等金属,ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。

    设备组成
    系统主要由真空室、旋转基片架、加热系统、电子枪及电子枪电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成。立方整体外观,适用于超净间间壁隔离安装。

    技术指标

    1、极限真空度:≤6.7×10-5 Pa (经烘烤除气后)

    2、系统真空检漏漏率:≤6.7×10-8 Pa.l/S

    320分钟可达到工作真空度6.7×10-4 Pa

    4、蒸发速率:0.115Å/sec

    5、膜厚均匀性:片内≤±1%片间≤±1%

    6、电子枪及电源:10KW,坩埚6x40cc

    7、膜厚控制仪(单探头):1套;

    8、拱形基片架:可同时放置204″基片;

    9、样品加热温度:室温~300°C

    10、无油泵抽系统:1套;

    11、自动控制系统:1套;

    12、占地面积:1600×2700mm;开门后尺寸:3200×3700mm

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:024-23826899024-23826855

    售后电话:024-23826838

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.sky.ac.cn

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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