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首页 » 产品中心 » CVD镀膜设备 » PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。
技术指标:
1、 极限真空度:≤6.67x10-5Pa;
2、 系统从大气开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa;
3、 系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa;
4、 圆筒型真空室尺寸约Ф400x300mm;
5、 基片尺寸:可放置Φ100mm基片;
6、 工艺气路:4路;
7、 抽气组件:分子泵系统;
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