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磁控与离子束复合系统
编号:SN20150801152712388
类别:离子束溅射镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的制备。可广泛应用于半导体、微电子及新材料领域。

     

    设备组成

        系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

     

    技术指标

     

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