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MOCVD镀膜设备
编号:SN20150801153530518
类别:MOCVD镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        主要应用于化合物半导体材料的研究和生产,为当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段,如激光器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等的制备,是光电子等产业不可缺少的设备。

     

    设备组成

        设备主要由反应室、进样室、样品传递机构、气路系统、电控系统、计算机系统等组成。

     

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