SKY系列阴极磁控靶 - 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
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SKY系列阴极磁控靶
编号:SN20151013144227897
类别:系列阴极磁控靶
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    阴极磁控溅射是利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。

    SKY系列磁控靶水冷采用大截面水冷结构,缩短磁铁和靶材间距,主体支架采用PPS材料,提高了绝缘性能;所有电的引入部分,采用耐烘烤线,提高了靶头整体的耐热性能和导电性能;磁铁采用高均匀性钕铁硼材料,提高了水平磁场强度和分布均匀性。

    磁控溅射阴极具有如下优点:

    1、适用于高功率密度溅射,溅射速率高;

    2、溅射阴极使用寿命长;

    3、靶材利用率高,达到40%以上;

     

    4、溅射薄膜厚度均匀性和成份一致性好,可以达到±3%以内。

     

    SKY系列磁控靶有圆形靶和矩形靶两种外形结构。

    圆形靶包括永磁靶和强磁靶两种形式,适用于不同的磁控溅射需求。在选型表中给出了不同规格靶头不同位置的磁场强度,表中ABC对应数值表示三点的场强值,供您选型时参考。

     

    对于圆形阴极磁控溅射靶,SKY具有靶支杆系列及靶支座系列与之配合使用。

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