TRP450磁控溅射系统 - 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

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TRP450磁控溅射系统
编号:3
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

    设备组成

        系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

    1、极限真空度:≤6.6x10-6Pa;

    2、25分钟可达到6.6x10-4Pa;

    3、磁控溅射靶:2英寸x3套;

    4、直流溅射电源:500Wx2套;

    5、射频溅射电源:500Wx1套;

    6、样品尺寸:4英寸x1片;

    7、样品温度:最高800℃;

    8、分子泵系统:1套;

    9、薄膜压力真空规:1套;

    10、冷却水路系统:1套;

    11、自动控制系统:1套。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    电话:024-23826899024-23826855

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.sky.ac.cn

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660


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