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LLPLD-300型双室激光镀膜设备
编号:SN20151013153110200
类别:激光镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        系统由真空腔室(主溅射室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。

     

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