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单室离子束镀膜设备
编号:SN20151013153534805
类别:离子束溅射镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        系统为高真空多功能离子束沉积系统, 可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        系统主要由沉积室、考夫曼溅射离子源、考夫曼清洗辅助离子源、样品台、样品加热装置、膜厚监测系统、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。

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